排水槽模具对制造的合格率有很大的影响。有鉴于此，通常必须在每一道半导体工艺进行之前，以及工艺完成之后，另外再进行排水槽模具的步骤，借以清除附着在晶圆上的材料微粒和化学残留物等。目前，在排水槽模具的程序中，快速排水清洗法是相当常见的一种排水槽模具方式。所谓快速排水清洗法是先将放在晶圆座(WaferStand)上的晶圆完全浸泡于快速排水清洗槽里的去离子水中，排水沟预制模具，预制排水沟模具，河北预制排水沟模具，预制排水沟模具厂家再快速地排除快速排水清洗槽中的去离子水，与此同时，对排水槽模具去离子水，用于排水槽模具。排水槽模具程序后，一般会紧接着快速排水槽模具步骤，借以去除上一道工序中，沾附于晶圆上的工艺微粒和化学残留物。的快速排水清洗槽的剖面示意图。晶圆106、晶圆106a、以及晶圆106b先通过机械手臂的传送而摆放在晶圆座101的插槽上.
